在這里，我們向大家介紹一些與眾不同且高水準的光引發劑，正是因為其獨特性，它們的價格也相應較為昂貴。但絕對值！
01、陽離子型光引發劑
它是在吸收光能后到激發態，分子發生光解反應，產生超強酸即超強質子酸，從而引發陽離子低聚物和活性稀釋即進行陽離子聚合。
這類使用陽離子引發劑的低聚物和活性稀釋劑主要有：環氧化合物和乙烯基醚，還有內酯、縮醛、環醚等。
陽離子引發劑和自由基引發劑的比較
陽離子光固化的活性中間體超強酸在化學上是穩定的，因帶正電荷不會發生偶合而消失，在鏈終止時也會產生新的超強酸，因此光照停止后，仍能繼續引發聚合交聯，進行后固化，壽命長，適合于厚涂層和有色涂層的光固化。
02、大分子引發劑
主要針對小分子引發劑的以下問題：
（1） 相容性——
溶解性差，需要加熱。低溫放置可能會析出。有可能在溶劑揮發時引起溫度變化而溢出，造成顆粒。
（2） 遷移性——
（3） 氣味——
目前商業化的大分子光引發劑分為Esacure KIP150 以及KIP150為主的KIP系列和KT系列。
KIP150是橙黃色粘稠物，分子量2000左右。實際上可看作將1173連接再甲基乙烯基上組成的低聚物，屬于a－羥基酮累引發劑，最大吸收波長在245nm和325nm。在低聚物和活性稀釋劑中溶解性較好。
KIP150是一個不遷移、低氣味和耐黃變的光引發劑，雖然其光引發效率只有1173的1/4，但KIP150在光照后，可在大分子上同時形成多個自由基，局部自由基濃度可以很高，能有效克服氧阻聚，提高光聚合速度，在使用時有較好的光引發作用。
多個組成物
除KIP/KB是粘稠物外都是液體。
03、水基光引發劑
水性光固化涂料是由水性低聚物和水性光引發劑組成。用水來代替活性單體。
不少水性光引發劑是在原來油溶性光引發劑結構中引入陰離子、陽離子或親水性的非離子基，使其變成水溶性。
已經商品化的水性光引發劑有KIPEM、819DW和QTX等。Omnirad 2959由于在1173苯環對位引入了羥基－2－氧基（HOCH2CH2-），使在水中的溶解度從0.1％提高到1.7％，也可以用在水性光固化中。
04、可見光引發劑
已經商品化的有樟腦醌和鈦茂可見光引發劑。
1、 樟腦醌
樟腦醌（CQ）最大吸收波長470nm。在吸收光能后，與助引發劑叔胺作用，奪氫后產生自由基。（自由基型的引發劑）。
優點：樟腦醌由于對人體無害，生物相容性好，光解反應后其長波吸光性能消失，具有光漂白作用，非常適合在光固化牙科材料上應用。
2、 鈦茂
氟代二苯基鈦茂具有良好的光活性、熱穩定性和較低的毒性，可作為光引發劑使用，并商品化。
雙[2，6－二氟－3－（1H－吡咯基－1）苯基]鈦茂，商品名Irgacure 784，簡稱 784。橙色粉末，熔點160－170。
最大吸收波長398nm、470nm，最大吸收波長可達560nm。784和氬離子激光器488nm發射波長匹配。氟代二苯基鈦茂784光引發劑的光引發過程既不屬于裂解型，也不屬于奪氫型。
784可見光吸收良好，光解后有漂白作用，非常適合作厚涂層的可見光固化，可固化70um以上的厚涂層。
熱分解為230度，和乙酸或氫化鈉溶液中煮沸幾個小時不發生變化，有極好的熱穩定性。784的感光靈敏度和光引發活性很高，在丙烯酸酯體系中，只需0.8mJ/cm2的488nm光照就可以引發聚合；0.3％ 784光引發劑下率比2％651高出2～6倍。
缺點：在UV光區摩爾消光系數太大，光屏蔽作用強，只能用于薄涂層固化。
784主要用于高技術含量和高附加值領域，如氬離子激光掃描固化等。
